ASML

ASML  er et hollandsk firma, den største producent af litografisk udstyr til den mikroelektroniske industri , hvilket også er nødvendigt for fremstilling af VLSI , hukommelseschips, flashhukommelse, mikroprocessorer.

Med hovedkvarter i Veldhoven , er forsknings- og produktionsenheder også placeret der, mere end 60 servicecentre opererer i 16 lande på installationsstederne. Selskabets aktier handles på AEX og NASDAQ under ticker-symbolet ASML.

Virksomheden, der oprindeligt hed ASM Lithography [3] , blev grundlagt i 1984 som et joint venture mellem Advanced Semiconductor Materials International (ASMI) og Philips . Efterfølgende stod Philips kun tilbage med en lille del af ASML-lageret [4] . Med en markedsværdi på 350 milliarder dollars (for efteråret 2021) er virksomheden i toppen af ​​Nasdaq-100- indekset [5] .

Hovedleverandøren er den tyske optikproducent Zeiss . Nøglekonkurrenter er Canon og Nikon .

Produkter

ASML litografimaskiner bruges til fremstilling af integrerede kredsløb . I sådanne installationer foregår processen med optisk projektion af specielle delvist gennemsigtige mønstre (masker) på overfladen af ​​en halvlederwafer , dækket med en tynd film af lysfølsomt materiale ( fotoresist ). For hver plade gentages denne procedure flere dusin gange. Efter hver projektion behandles pladen med den påførte fotoresist, hvorunder de elektroniske strukturer af mikrokredsløb dannes. Den optiske metode, der anvendes i ASML-installationer, er blevet brugt til produktion af næsten alle integrerede kredsløb.

ASML blev den førende leverandør af litografiapparater i 2002 [6] . Fra 2007 har ASML en markedsandel på 65 % i salget af fotolitografisk udstyr (på verdensplan) [7] .

Fra 2008 kunne ASML Twinscan XT:1950 i topklasse bruges med processer op til 38 nm [8] med op til 131 wafere i timen. Opsætningen bruger vandbelagt immersionslitografi og en argon-fluorid ( argon-fluorid , ArF) excimer - laser med en bølgelængde på 193 nm. Samtidig kostede en litografisk installation i gennemsnit 22 millioner euro [8] .

I 2009 udviklede ASML 13,5 nm laser ( EUVL ) faciliteter. Den 22. april 2009 præsenterede Imec , et belgisk forskningscenter, operationelle 22 nm SRAM CMOS SRAM-chips på en prototype ASML-opsætning med EUVL [9] .

Hovedserien af ​​ASML-litografier [10] :

• 1984: PAS 2000, opløsning ned til 1 µm, positioneringsnøjagtighed op til 250 nm
• 1989: PAS 5000, opløsning ca. 0,5 µm, nøjagtighed op til 100 nm
• 1990'erne: PAS 5500, opløsning 400-90 nm, nøjagtighed op til 100-12 nm
• 2000'erne: TWINSCAN familie (NX, NXT), opløsning 100-38 nm, nøjagtighed op til 20-2 nm
• 2010'erne: TWINSCAN NXE eksperimentelle EUV-systemer, opløsning 38-19 nm, nøjagtighed bedre end 3 nm

Russiske brugere

I Rusland var brugen af ​​ASML steppere (litografier) ​​planlagt (fra 2008) på Angstrem-T fabrikken [11] .

Også blandt de russiske brugere af ASML er NIISI , som bruger projektions trin-for-trin animationsinstallationen (stepper) ASML PAS 5500/250С [12] [13] .

ASML-enheder bruges på frontlinjen til produktion af mikrokredsløb i Zelenograd på Mikron -anlægget (PAS 5500 / 750F 248 nm / 0,7 - 120 wafers i timen og PAS / 1150C 193 nm / 0,75 - 135 wafers i timen).

Noter

1. ↑ how-asml-grow-to-30-thousand-under-pandemic Arkiveret 2. januar 2022 på Wayback Machine // asml.com, 2021
2. ↑ ASML Holding NV // Polygon.io
3. ↑ Om ASML: Vores historie . ASML Holding. Hentet 18. juni 2020. Arkiveret fra originalen 7. juli 2020. (ubestemt)
4. ↑ ASML virksomhedshistorie (downlink) . Hentet 12. november 2010. Arkiveret fra originalen 1. august 2009. (ubestemt) 
5. ↑ Citater til NASDAQ -100-indekset  . www.nasdaq.com . Hentet 25. juli 2020. Arkiveret fra originalen 25. april 2021.
6. ↑ Chris Mack. Milepæle i leverandører af optisk litografiværktøj 12 (2005). - "ASML(4)". Hentet 3. december 2013. Arkiveret fra originalen 14. maj 2014. (ubestemt)
7. ↑ ASML Pressemeddelelse 2007 kvartal 4 Arkiveret 7. juli 2011 på Wayback Machine "ASML øgede den globale markedsandel målt i nettosalg til 65 procent i 2007"
8. ↑ 1 2 Pressemeddelelse 2008 kvartal 3 (link ikke tilgængeligt) . Hentet 12. november 2010. Arkiveret fra originalen 7. juli 2011. (ubestemt) 
9. ↑ IMEC præsenterer funktionelle 22nm SRAM-celler fremstillet ved hjælp af EUV-teknologi Arkiveret 25. april 2009 på Wayback Machine . IMEC pressemeddelelse, 22. april 2009.
10. ↑ Arkiveret kopi . Dato for adgang: 6. september 2014. Arkiveret fra originalen 6. september 2014. (ubestemt)
11. ↑ Angstrem-T-projekt: den første russiske arkivkopi af smart-støberi dateret 27. maj 2011 på Wayback Machine  - Electronics NTB 2008: "Vi forventer at arbejde på et niveau på 0,11-0,13 mikron. Dette er muligt, fordi dette er præcis den teknologiske opløsning af ASML steppere (litografier)." // electronics.ru
12. ↑ http://nanotech.iu4.bmstu.ru/learning_program/magistr/doc/primer.doc  (utilgængeligt link) "PAS5500/250C projektionslitografienheden fra ASML bruges på NIISI RAS produktionslinjen"
13. ↑ Arkiveret kopi (link ikke tilgængeligt) . Hentet 12. november 2010. Arkiveret fra originalen 6. september 2014.  (ubestemt)  "ved at bruge installationen af ​​trin-for-trin animation ASML PAS 5500/250є... "TP af fotolitografi på NIISI RAS fabrikken."

Links

• asml.com - ASML's officielle hjemmeside